半導体や液晶パネルの基板の作成などに用いられる、回路パターンなどをレーザー光で「現像」する装置。また、その過程。フォトリソグラフィ、ステッパーとも呼ばれる。 露光装置では、「フォトレジスト」と呼ばれる感光剤を塗布したシリコンやガラスなどの基板上に、焼き付けたいパターンを書き込んだ「マスク」(レクチル)と呼ばれる遮光材を通じレーザー光線を照射する。一つのチップを形成するのに、多色刷り印刷のように工程ごとに分解された十数種類のマスクが必要とされる。半導体ウェハーでは、露光したあと感光した部分を化学的に腐食(エッチング)させ、リンなどの不純物を打ち込むことにより半導体素子を形成する。 照射に用いられるのは主に発信波長200nm程度の紫外線で、最も密なもので数十nm～百数十nm程度の電極パターンをエッチングすることができる。 近年では光学技術の向上によりマスクを用いることなくレーザー光線の制御により微細なエッチングを実現することが可能な「マスクレス露光」が注目されている。これは、基板ごとに異なるパターンのマスクを用意することがなく低コスト化が実現し、また仕様変更を柔軟に行えることが注目されている。 露光装置によるパターン作製は半導体や液晶パネルなどの基板作製とともにCD-RW、DVD-RAMなどの相変化光記録ディスクにおける記録ピットの作製でも用いられる。CD-RW、DVD-RAMの場合、ディスク表面にランドグルーヴ、およびウォブルと呼ばれる記録の際のトラッキングの役割を果たす数十nm程度の溝を作製する。